今天呢，咱们来看一看什么是"光刻"？
▌LITHO：Lithography，又叫：光刻术，学名掩模对准曝光技术。
原理：先将电路几何图形刻在光罩（Reticle）上，再利用光罩通过光化学反应，将图形转移到覆盖在半导体晶片上的光刻胶（又称光致抗蚀剂或光阻，PhotoResistor/PR）的一种集成电路技术。其实就好比是照片的冲印技术，只是这个是把光罩上的电路图通过曝光印制到硅片上。
▌LITHO集成电路技术的基本流程：
Step 1.先在晶圆硅表面通过炉管形成一层二氧化硅(SiO2)膜。
Step 2.然后开始涂光刻胶技术。
Step 3.再通过光罩进行曝光技术。
Step 4.再进行显影技术。
Step 5.再进行蚀刻,通过ETCH工艺在二氧化硅(SiO2)膜上蚀刻成所需的图案。
Step 6.最后通过ASH（灰化）工艺进行光刻胶的去除。
▌大致的流程图如下：
▌与LITHO相关的五个重要的技术：
1.光罩.
2.曝光.
3.涂胶和显影.
4.APC(Advanced Process Control:先进工艺控制）/检测.
5.OPC（Optical Proximity Correction:光学邻近效应修正）.
▌LITHO设备参考图：
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