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作者：pocky小七来源：知乎

目录

一、软件分享

1. 九宫格切图

2. 拼接长图

3. 其他拼接

4. 九宫格留白

5. HDR效果

6. 胶片效果

7. 重爆效果

8. 巧用符号

二、硬件分享

三、拍摄技巧分享

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互连——有时是纳米宽的金属线，将晶体管连接到 IC 上的电路中——需要进行大修。而随着芯片厂向摩尔定律的外围迈进，互连也正成为行业的瓶颈。

“大约 20-25 年来，铜一直是互连的首选金属。然而，我们正在达到铜的规模正在放缓的地步，”IBM 的 Chris Penny 上个月在IEEE 国际电子设备会议 (IEDM)上告诉工程师。“而且有机会找到替代导体。”

Hello,大家好，今天我们来聊下，芯片制造FAB中的HOOK UP。

Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。

这个光刻机制造出来的芯片主要是用于量子计算机，可以制造出高精度的固态量子器件，以及纳米器件及材料，对量子计算机来说精度非常重要。

Hello,大家好，今天我们来分享下CMP（化学机械研磨）工艺中主要的耗材--抛光垫。

编者按：

最近，IRDS陆陆续续发布了最新的路线图。所谓IRDS 成立于 2016 年，是半导体国际技术路线图的继承者。这些预测旨在协调学术界、制造商、设备供应商和国家研究实验室之间的努力。

我们将陆续介绍Fab里的主要工艺环节，来看看是否对你有帮助！

今天呢，咱们来看一看什么是"光刻"？

在半导体制造中，Litho